20升低溫恒溫槽供應是一種恒溫控制裝置儀器。低溫恒溫水浴主要適用于各大中院校、科研企事業(yè)單位的實驗室和化驗室，對各種化學樣品，生物制品，紡織樣品的蒸餾、干燥、濃縮、溫漬及冷藏。低溫恒溫水浴內(nèi)膽采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼板焊接而成，外殼采用冷板噴塑，提高了儀器的防腐能力。溫度控制采用智能化數(shù)字顯示控制，操作簡便、易懂，并帶有電子定時功能。

20升低溫恒溫槽本用于各種試驗環(huán)境，需要控溫范圍在常溫條件下使用的儀器，并配置雙制冷機，具有制冷速度快、噪音低及恒溫精度高等優(yōu)點，用途廣泛，是檢測和試驗單位*的設備。

低溫恒溫水浴實現(xiàn)高溫、高濕只需要往箱體空氣中噴水蒸汽或霧化的水珠，進行加濕。低溫低濕則相對難于控制，因為此時的含濕量很低，有時比大氣中的含濕量低很多，需要對箱體內(nèi)流動的空氣除濕，使空氣變得干燥。目前國內(nèi)外絕大多數(shù)的溫濕度箱都采用制冷除濕的原理，是在箱體的空氣預調(diào)室內(nèi)加一組制冷光管。當濕空氣經(jīng)過冷管時，其相對濕度會達到100％RH，因空氣飽和在光管上結露，使空氣變得更干燥。這種除濕方式理論上可達到零度以下的露點溫度，但是當冷點表面溫度到達0℃時，光管表面結露的水滴會結冰，從而影響光管表面的熱交換，使除濕能力下降。又因為箱體不可能密封，大氣中的濕空氣會滲入到箱體內(nèi)，使露點溫度回升。另一方面，在光管間流動的濕空氣只是在和光管(冷點)接觸的瞬間達到飽和狀態(tài)而析出水蒸汽，因此這種除濕方法很難使箱體內(nèi)的露點溫度在到0℃以下。實際所達到的低露點溫度為5～7℃。露點溫度5℃相當于含濕量為0.0055g/Kg，對應相對濕度20％RH的溫度為30℃。如果要求溫度 20℃進相對濕度達到20％RH，此時的露點溫度為－3℃，采用致冷方式除濕是很困難的，必須選用空氣干燥系統(tǒng)才能實現(xiàn)。

低溫恒溫水浴控制方式的選擇：

溫度、濕度試驗箱有恒定試驗箱、交變試驗箱兩種情況。    普通的高低溫試驗箱一般指的是恒定高低溫試驗箱，其控制方式為：設定一個目標溫度，試驗箱具有自動恒溫到目標溫度點的能力。恒定溫濕度試驗箱的控制控制方式也類似，設定一個目標溫度、濕度點，試驗箱具有自動恒溫到目標溫度、濕度點的能力。高、低溫交變試驗箱具有設定一條或者多條高低溫變化、循環(huán)的程序，試驗箱有能力根據(jù)預置的曲線完成試驗過程，并且可以在升溫、降溫速率能力的范圍內(nèi)，控制升溫、降溫的速率，即可以根據(jù)設定的曲線的斜率控制升溫、降溫速率。同樣，高低溫交變濕熱試驗箱也具有預置溫度、濕度曲線，并且根據(jù)預置進行控制的能力。當然，交變試驗箱都具有恒定試驗箱的功能，但交變試驗箱的制造成本較高，因為交變試驗箱需配置有曲線自動記錄裝置、程序控制儀，還須解決試驗箱在工作室內(nèi)溫度較高的情況下開啟制冷機等問題，因此，交變試驗箱的價格比恒定試驗箱的價格一般要高20%以上。因此，我們應當實事求是的以試驗方法的需要為出發(fā)點，選用恒定試驗箱或者是交變試驗箱。

低溫恒溫水浴DC4020性能特點：

采用微機溫控PID調(diào)節(jié)、自整定控制技術，控溫精度高；有斷偶保護功能，防止儀器失控；上限超溫報警功能，可自己設定，超出范圍，即刻報警；全封閉品牌壓縮機，降溫快、效率高、噪聲低；儀器工作穩(wěn)定可靠，操作非常方便；微機修正溫度測量值偏差，數(shù)顯精度0.01度或0.1度； 循環(huán)泵可進行恒溫液體外引循環(huán)并可控制。

?可選配RS232或RS485通訊接口，實現(xiàn)數(shù)據(jù)傳輸進行遠距離控制。

?可以選配程序控溫系統(tǒng)，其特點為：
大屏幕液晶顯示，軟件程序控制，可編輯時間/溫度曲線。
多段可編溫度、時間程序，控制升溫、恒溫、降溫過程，且升溫速度、降溫速度可按用戶要求設置自動控制。
編寫儲存30個溫度/時間段，每個程序可設置0～9999分鐘運行時間。
多種參數(shù)設定方式:方便快捷的輸入鍵、移位鍵和增鍵、減鍵，設定溫度/時間段及其他高級控制參數(shù)或直接調(diào)儲存的溫度/時間設定程序。

低溫恒溫槽DC0515主要應用領域：

分析儀器:光譜儀 質(zhì)譜儀 粘度計 旋光儀 發(fā)酵裝置 旋轉蒸發(fā)儀 。
真空獲得及醫(yī)療:分子泵 擴散泵 降溫毯 X光機 核磁共振 加速器 。
工業(yè)設備及其他: 激光設備 真空鍍膜設備 生物制藥 模具 機床 真空爐 焊接機 反應釜。

低溫恒溫水浴DC4020主要應用領域：

分析儀器:光譜儀 質(zhì)譜儀 粘度計 旋光儀 發(fā)酵裝置 旋轉蒸發(fā)儀 。
真空獲得及醫(yī)療:分子泵 擴散泵 降溫毯 X光機 核磁共振 加速器 。
工業(yè)設備及其他: 激光設備 真空鍍膜設備 生物制藥 模具 機床 真空爐 焊接機 反應釜。